Litografia contemporanea en ee.uu.: desarrollo tecnico y expresivo

Tesis doctoral de Alfonso Julian Sanchez Luna

Se trata de un trabajo de investigación que se inicia con mi estancia en el tamarind instituye de la universidad de nuevo mexico y en el que se reflexiona sobre la obra grafica contemporanea, y concretamente sobre la litografia en ee.Uu. En el periodo comprendido entre los años setenta y los noventa, dada la importancia y la influencia que ha ejercido ese periodo en el grabado actual. se utilizan los antecedentes y formación de las lineas expresivas en la obra gráfica de los años sesenta, el entorno historico-artistico, los artistas, master-printers, talleres e instituciones educativas más representativos de las últimas décadas. en el tercer capítulo de la tesis, se analizan las técnicas litográficas en función de las líneas expresivas de la vanguardia norteamericana, y en el cuarto, algunas tecnicas litograficas innovadoras como el toner xerográfico en polvo y su utilización en litografia, la siligrafia o litografia sin agua o la litografia sobre plantas polimétalicas. se describen los materiales y los diferentes procesos de trabajo, principalmente las experiencias de nik semenoff y otros investigadores norteamericanos como veda ozelle y dale bradley.,Y la idoneidad de estas tecnicas litográficas. se adjunta al final de la tesis un glosario de términos y una bibliografia especifica.

 

Datos académicos de la tesis doctoral «Litografia contemporanea en ee.uu.: desarrollo tecnico y expresivo«

  • Título de la tesis:  Litografia contemporanea en ee.uu.: desarrollo tecnico y expresivo
  • Autor:  Alfonso Julian Sanchez Luna
  • Universidad:  Politécnica de Valencia
  • Fecha de lectura de la tesis:  18/12/2000

 

Dirección y tribunal

  • Director de la tesis
    • Guillen Ramon José Manuel
  • Tribunal
    • Presidente del tribunal: Antonio Tomás sanmartín
    • Herrero gomez José María (vocal)
    • Juan Carlos Ramos guadix (vocal)
    • Alcala mellado José ramon (vocal)

 

Deja un comentario

Tu dirección de correo electrónico no será publicada. Los campos obligatorios están marcados con *

Scroll al inicio