Tesis doctoral de Fernandez Fernandez M. Dolores
La presente tesis doctoral trata sobre la produccion de peliculas delgadas de oxido de silicio mediante procesos quimicos inducidos por laser de co2. Se presenta un estudio sistematico del proceso de deposicion habiendose considerado cada uno de los parametros que intervienen en el mismo y su influencia sobre la velocidad de crecimiento y las propiedades de las peliculas. Ademas, aporta un modelo teorico para el calculo de la temperatura en el gas que permite explicar los resultados obtenidos experimentalmente. Por ultimo, presenta un estudio de posibles aplicaciones tecnologicas de las peliculas obtenidas con este metodo.
Datos académicos de la tesis doctoral «Peliculas de oxido de silicio producidas mediante procesos quimicos (cvd) inducidos por laser co2«
- Título de la tesis: Peliculas de oxido de silicio producidas mediante procesos quimicos (cvd) inducidos por laser co2
- Autor: Fernandez Fernandez M. Dolores
- Universidad: Santiago de compostela
- Fecha de lectura de la tesis: 01/01/1992
Dirección y tribunal
- Director de la tesis
- Leon Fong Betty M.
- Tribunal
- Presidente del tribunal: María no Pérez-martínez Y Pérez-amor
- José María Albella Martin (vocal)
- Francisco Sanchez Quesada (vocal)
- Afonso Rodriguez Carmen Nieves (vocal)