Tesis doctoral de Manuel Cervera Goy
Puesta a punto de un sistema de tratamientos termicos de substratos semiconductores, en vacio, con haz de electrones y portasubstratos caldeable. Modelizacion del proceso termico mediante aproximacion numerica bidimensional basada en el metodo de elementos finitos. aplicacion de la tecnica a la recuperacion del daño producido durante el proceso de implantacion ionica en substratos de silicio y activacion de las impurezas implantadas. Fabricacion y caracterizacion de diodos p+-n y n+-p. Caracterizacion de las capas implantadas. aplicacion de la tecnica a la formacion de siliciuros de titanio a partir de peliculas metalicas depositadas sobre el semiconductor. Caracterizacion de las capas formadas mediante espectroscopia de difraccion de rayos x y rbs.
Datos académicos de la tesis doctoral «Tratamientos termicos con haz de electrones: aplicaciones a la tecnología microelectronica del silicio.«
- Título de la tesis: Tratamientos termicos con haz de electrones: aplicaciones a la tecnología microelectronica del silicio.
- Autor: Manuel Cervera Goy
- Universidad: Autónoma de Madrid
- Fecha de lectura de la tesis: 01/01/1995
Dirección y tribunal
- Director de la tesis
- Javier Martinez Rodríguez
- Tribunal
- Presidente del tribunal: Juan Piqueras Piqueras
- Carmen Nieves Afonso (vocal)
- Emilio Lora Tamayo (vocal)
- Vicente Lopez Martinez (vocal)