Tesis doctoral de Ignacio Esquivias Moscardo
Se presenta el desarrollo de un metodo de obtencion de capas delgadas de siliciomediante evaporacion con haz de electrones la caracterizacion del material obtenido en cuanto a su estructura morfologica y cristalina propiedades opticasy electricas y la fabricacion y medida de diversos dispositivos realizados con este material. Los resultados indican que la estructura morfologica es de tipo microcolumnar siendo el material amorfo o policristalino segun la temperatura de deposicion sea inferior o superior a 400 c respectivamente. Se propone un modelo de mezcla de fases amorfa y cristalina que explica satisfactoriamente los resultados obtenidos en cuanto a propiedades opticas electricas y caracteristicas de los dispositivos.
Datos académicos de la tesis doctoral «Caracterizacion de capas delgadas de silicio obtenidas mediante evaporacion con haz de electrones.«
- Título de la tesis: Caracterizacion de capas delgadas de silicio obtenidas mediante evaporacion con haz de electrones.
- Autor: Ignacio Esquivias Moscardo
- Universidad: Politécnica de Madrid
- Fecha de lectura de la tesis: 01/01/1984
Dirección y tribunal
- Director de la tesis
- Tomas Rodriguez Rodriguez
- Tribunal
- Presidente del tribunal: Antonio Luque Lopez
- Fernando Rueda Sanchez (vocal)
- Elias Muñoz Merino (vocal)
- (vocal)