Datos académicos de la tesis doctoral «Deposicion de nitruro de silicio por deposicion quimica en fase vapor asistida por plasma (pecvd). influencia de los gases precursores.«
Título de la tesis: Deposicion de nitruro de silicio por deposicion quimica en fase vapor asistida por plasma (pecvd). influencia de los gases precursores.
Autor: Olga Sanchez Garrido
Universidad: Autónoma de Madrid
Fecha de lectura de la tesis: 01/01/1990
Dirección y tribunal
Director de la tesis
Tribunal
Presidente del tribunal: Arturo Baro Vidal
German Gonzalez Diaz (vocal)
Carlos Serna Pereda (vocal)
Martinez Duart José Manuel (vocal)
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