Tesis doctoral de Elias Paule Vazquez
Se ha diseñado un reactor para la deposicion del oxido de silicio dopado con boro y fosforo en substratos (*) de 150 mm de diametro y para ser utilizado en tecnologías submicronicas. Los reactivos utilizados han sido tmb, teos, ph3 y o2; la reaccion se activo termicamente y fue realizada a baja presion (lpcvd). Las propiedades de este material (bpteos) son sensiblemente superiores al material que se obtiene de la reaccion quimica sih4, ph3, b2h6 y o2; bpsg; y que se utiliza tradicionalmente en tecnologías superiores a la micra. Por ello este material (bpteos) es factiale de ser utilizado en tecnologías suamicronicas.
Datos académicos de la tesis doctoral «Diseño y caracterizacion del proceso de deposicion por lpcvd del sio2 dopado para su utilizacion en tecnologías ulsi.«
- Título de la tesis: Diseño y caracterizacion del proceso de deposicion por lpcvd del sio2 dopado para su utilizacion en tecnologías ulsi.
- Autor: Elias Paule Vazquez
- Universidad: Autónoma de Madrid
- Fecha de lectura de la tesis: 01/01/1992
Dirección y tribunal
- Director de la tesis
- Martinez Duart José Manuel
- Tribunal
- Presidente del tribunal: Juan Piqueras Piqueras
- Emilio Martinez Gutierrez (vocal)
- Aldella Martin J. María (vocal)
- Domingo Gonzalez (vocal)