Estudio de la estabilidad termica del a-sinx:h producido mediante la tecnica de plasma ecr-cvd

Tesis doctoral de Martinez Viviente Felix Lorenzo

La técnica de deposición química en fase de vapor activada por resonancia cilcotrónica de electrones ecr-cvd ha sido empleada para crecer láminas delgadas de nitruro de silicio hidrogenado (sinx:h) de varias composiciones. este dieléctrico de elevada permitividad tiene numerosas aplicaciones en microelectrónica, y reune algunas características adecuadas para sustituri o complementar al óxido de silicio como aislante de puerta en transistores de efecto campo de estructura mos en aquellos casos en que la continua reducciónd e las dimensiones laterales de los dispositivos conduce a alcanzar el mínimo espesor de óxido tolerable. con posterioridad al crecimeinto, las muestras fueron sometidas a tratamientos térmicos rápidos rta a temperaturas comprendidas entre 300º c y 1050º c, con el objetivo de estudiar la evolución de la spropeidades del sinx:h en función de la temperatura de estos procesos. un amplio número de técnicas analíticas y espectroscópicas han sido utilizadas para analizar el comprotamiento del sinx:h frente a la temperatura. la composición ha sido estudidiada mediante técnicas de analisis de haces de iones: rbs y erda. La estructura de enlaces del material ha sido analizada mediante espectros copia infrarroja, mientras que la simperfecciones presentes en la red de enlaces fueron estudiadas por resonancia de espín electrónico. las propiedades de absorción óptica han sido estudiadas mediante espectroscopia en el ultravioleta-visible. Por último se realizaron estructuras metal-nitruro-silicio para investigar las características eléctrica sy de intercara mediante medidas i-v y c-v. las conclusiones del trabajo han permitido poner de manifiesto el papel determinante que desempeña el hidrógeno en las propeidades del sinx:h el hidrógeno se puede encontrar enlazado tanto a silicio como a nitrógeno, así como, atrapado en en las microcavidades de la red sin formar enlaces. para temperaturas elevad

 

Datos académicos de la tesis doctoral «Estudio de la estabilidad termica del a-sinx:h producido mediante la tecnica de plasma ecr-cvd«

  • Título de la tesis:  Estudio de la estabilidad termica del a-sinx:h producido mediante la tecnica de plasma ecr-cvd
  • Autor:  Martinez Viviente Felix Lorenzo
  • Universidad:  Complutense de Madrid
  • Fecha de lectura de la tesis:  05/05/2000

 

Dirección y tribunal

  • Director de la tesis
    • Martil De La Plaza Ignacio
  • Tribunal
    • Presidente del tribunal: Juan manuel Rojo alaminos
    • Martinez duart José Manuel (vocal)
    • Juan Piqueras piqueras (vocal)
    • silvia Garcia sanchez (vocal)

 

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