Estudio de peliculas aislantes de silicio, oxigeno y nitrogeno depositadas por plasma ecr-cvd.

Tesis doctoral de Hernandez Muñoz M. Jesús

Estudio de las propiedades opticas y electricas de peliculas de oxido, nitruro y oxinitruros depositadas sobre silicio mediante deposito en fase vapor asistido por plasma de resonancia ciclotron de electrones. Entre las propiedades estudiadas figuran la velocidad de deposito, el indice de refraccion, la composicion y la densidad de carga, evaluadas mediante elipsometria espectroscopica, espectroscopia ir, tecnicas electricas capacitativas y conductivas.

 

Datos académicos de la tesis doctoral «Estudio de peliculas aislantes de silicio, oxigeno y nitrogeno depositadas por plasma ecr-cvd.«

  • Título de la tesis:  Estudio de peliculas aislantes de silicio, oxigeno y nitrogeno depositadas por plasma ecr-cvd.
  • Autor:  Hernandez Muñoz M. Jesús
  • Universidad:  Autónoma de Madrid
  • Fecha de lectura de la tesis:  01/01/1998

 

Dirección y tribunal

  • Director de la tesis
    • Javier Garrido Salas
  • Tribunal
    • Presidente del tribunal: Bailon Vega Luis Alberto
    • Juan Piqueras Piqueras (vocal)
    • Tomas Rodriguez Rodriguez (vocal)
    • Martil De La Plaza Ignacio (vocal)

 

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