Medida de parametros atomicos en un plasma de silicio.

Tesis doctoral de Victor R. Gonzalez Fernandez

En este trabajo se determinan los parametros stark del silicio una y dos veces ionizado, asi como las probabilidades de transición del silicio una vez ionizado, en un plasma pulsado cuyo estado fisico se asemeja al de atmosferas estelares de interes astrofisico y al de varios plasmas de interes industrial y de laboratorio. se ha realizado un exhaustivo estudio del estado de equilibrio termodinam ico del plasma generado mediante el dispositivo experimental, utilizando los modelos de plasma en equilibrio local parcial y de dos temperaturas. para llevar a cabo el diagnostico del plasma de silicio ha sido precisa la construcción y puesta a punto de varios dispositivos experimentales, asi como el desarrollo de diversas tecnicas experimentales y de diagnostico. como resultado del trabajo se ha podido dilucidar la indeterminación debida a la gran dispersión existente entre los resultados ofrecidos por trabajos previos y establecer los modelos teoricos mas aproximados a los resultados experimentales.

 

Datos académicos de la tesis doctoral «Medida de parametros atomicos en un plasma de silicio.«

  • Título de la tesis:  Medida de parametros atomicos en un plasma de silicio.
  • Autor:  Victor R. Gonzalez Fernandez
  • Universidad:  Valladolid
  • Fecha de lectura de la tesis:  09/07/1999

 

Dirección y tribunal

  • Director de la tesis
    • Santiago Mar Sardaña
  • Tribunal
    • Presidente del tribunal: manuel Quintanilla monton
    • isabel Tanarro onrubia (vocal)
    • klaus Grutzmacher (vocal)
    • Luis Roso franco (vocal)

 

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