Tesis doctoral de Jose Avila Sanchez
* la resistencia de contacto disminuye exponencialmente con la concentracion de n en el al dopado con n. * volumen: existe una estructura de cluster de aln junto con n diluido en el al dopado hasta un 6% de n. * Oxido nativo: los cluster se mantiene asi como el enlace quimico del n. * Oxido anodico: los cluster se destruyen, existiendo una gran cantidad de enlaces de al no saturados. * Defectos estructurales en el acoplo entre las redes de aln y al2o3 pueden causar la disminucion de la resistencia de contacto al/si3n4. * Existe una reduccion total del si3n4 a t=400c, formandose aln. * Un tratamiento termico a 400c produce la reduccion total de 24 angstrom de si3n4.
Datos académicos de la tesis doctoral «Resistencia de contacto y estructura superficial de materiales dopados con n.«
- Título de la tesis: Resistencia de contacto y estructura superficial de materiales dopados con n.
- Autor: Jose Avila Sanchez
- Universidad: Complutense de Madrid
- Fecha de lectura de la tesis: 01/01/1994
Dirección y tribunal
- Director de la tesis
- Sacedon Adelantado José Luis
- Tribunal
- Presidente del tribunal: Francisco Sanchez Quesada
- Mercedes Fernandez Rodriguez (vocal)
- Vicent Lopez José Luis (vocal)
- Tomas Rodriguez (vocal)